Hãy nhập câu hỏi của bạn vào đây, nếu là tài khoản VIP, bạn sẽ được ưu tiên trả lời.
HF là axit yếu nhưng hòa ta được oxit axit SiO2, còn các axit mạnh như H2SO4 HCl thậm chí là nước cường thuỷ.... lại không hòa tan đươc.Ví dụ:So sánh 2 phản ứng sau:
4HF + SiO2 ----> SiF4 + 2H2O (1)
4HCl + SiO2 ---> SiCl4 + 2H2O (2)
Năng lượng của phản ứng (1) là -920kJ (thấp), nhưng của phản ứng (2) là +54kJ.
Do đó phản ứng (1) xảy ra. ( phản ứng xảy ra theo chiều tạo năng lượng thấp)
Nguyên nhân chính của sự khác nhau này là do năng lượng liên kết Si-F (540 kJ/mol) trong SiF4 lớn hơn nhiều so với năng lượng liên kết Si-Cl (360 kJ/mol) trong SiCl4.
- Khi potassium bromide phản ứng với sulfuric acid đặc, đun nóng. Ta có phương trình:
2NaBr(s) + 3H2SO4(l) \(\xrightarrow{{{t^o}}}\) 2NaHSO4(s) + Br2(g) + SO2(g) + 2H2O(g)
=> Sản phẩm tạo thành không có HBr
=> Không thể điều chế hydrogen bromide từ phản ứng giữa potassium bromide với sulfuric acid đặc
Chọn đáp án B
1. Đúng.
2. Sai.HF là axit rất yếu.Ăn mòn thủy tinh là tính chất riêng có.
3. Sai.Tính khử và tính axit tăng dần
4. Sai điều chế bằng điện phân dung dịch NaCl không có màng ngăn.
5. Sai HClO là axit rất yếu
- Tính acid phụ thuộc vào khả năng tách H của acid. Phân tử nào càng dễ tách H thì tính acid càng mạnh
- Trong nhóm halogen, từ F đến I có độ âm điện giảm dần
=> Khả năng liên kết H-X giảm dần
=> Khả năng tách H trong HX tăng dần
=> Tính acid tăng dần
=> Dung dịch HF có tính acid yếu nhất
Do tính khử HBr, HI lớn, nó sẽ tác dụng với H2SO4 đặc nóng sinh ra Br2, I2 nên không thể điều chế HBr và HI theo phương pháp sunfat.
Cho các phát biểu sau
(1) Dãy HF, HCl, HBr, HI: độ bền tăng dần, tính axit và tính khử tăng dần.
(2) HF là axit yếu nhưng có tính chất đặc biệt ăn mòn thủy tinh.
(3) Phản ứng: NaX (tt) + H2SO4 đặc
NaHSO4 + Y(khí), Y gồm HCl, HBr, HI và HF.
(4) Các muối AgX đều là chất kết tủa (X là halogen).
(5) Không thể bảo quản axit HF trong chai, lo bằng thủy tinh.
(6) Trong nhóm halogen, theo chiều tăng dần điện tích hạt nhân: tính phi kim (tính oxy hóa) giảm dần còn tính khử tăng dần.
(7) Trong phòng thí nghiệm, có thể điều chế clo bằng cách cho HCl đặc tác dụng với các chất oxi hóa mạnh như MnO2, KMnO4, KClO3, K2Cr2O7,…
(8) Trong công nghiệp, điều chế clo bằng cách điện phân dung dịch natri clorua NaCl bão hòa (không có màng ngăn) .
Số phát biểu đúng là A. 2. B. 3. C. 4. D.5
\(4H\mathop {Cl}\limits^{ - 1} {\text{ }} + {\text{ }}\mathop {Mn}\limits^{ + 4} {O_2} \to {\mathop {Cl}\limits^0 _2} + {\text{ }}\mathop {Mn}\limits^{ + 2} C{l_2} + {\text{ }}2{H_2}O\)
a)
\(\mathop {Mn}\limits^{ + 4} + 2e \to \mathop {Mn}\limits^{ + 2} \) => MnO2 là chất oxi hóa
\(\mathop {2Cl}\limits^{ - 1} \to \mathop {C{l_2}}\limits^0 + 2e\) => HCl là chất khử
b) HI có tính khử mạnh hơn HCl
=> HI có thể phản ứng được với MnO2
4HI + MnO2 → I2 + MnI2 + 2H2O
axit HF có thể hoà tan SiO2 tạo ra chất khí SiF4 và nước Nhờ tính chất này nên HF có thể vẽ được lên thủy tinh
Axit flohidric (HF) hoà tan dễ dàng silic đioxit ( SiO2) tạo ra chất khí SiF4 và nước H2O. Nhờ tính chất này nên HF được dùng để khắc chữ hoặc các hoạ tiết trên thuỷ tinh. Do đó, chúng ta có thể trang trí trên thuỷ tinh như ý muốn.
A đúng.
Vì không có sự thay đổi số oxi hóa của các nguyên tố trước và sau phản ứng
- Tính acid của một chất càng mạnh nếu phân tử đó càng dễ phân li thành ion H+.
⟹ HF khó phân li thành ion H+ hơn so với HCl.
- Các phân tử hydrogen halide thì chỉ HF có liên kết hydrogen, các liên kết này sẽ làm cho nguyên tử H bị giữ chặt hơn ⟹ Khó tách ion H+ hơn so với HCl.
Vì vậy tính acid của HF yếu hơn rất nhiều so với HCl.
$-$ Axit HF có khả năng ăn mòn thủy tinh mà các axit khác không có được. Vì:
$+$ Axit HF là axit yếu nhưng có khả năng hình thành liên kết hydro mạnh với nguyên tử oxy trong SiO2 (silic dioxide), thành phần chính của thủy tinh.
$+$ Ion F- trong axit HF có kích thước rất nhỏ, cho phép nó len lỏi vào các khe hở trong cấu trúc thủy tinh, tiếp cận các nguyên tử Si và O một cách dễ dàng.
$+$ Mặc dù là axit yếu, nhưng axit HF vẫn có khả năng phân hủy một số liên kết Si-O trong thủy tinh, tạo điều kiện cho phản ứng diễn ra.
$=>$ Phản ứng SiO2 + 4HF → SiF4 + 2H2O xảy ra do sự kết hợp của tính axit của HF, tính khử của Si, tính ổn định của SiF4 và điều kiện phản ứng thích hợp.